濺射靶材
濺射靶(ba)材(cai)的(de)要(yao)求較傳統(tong)材(cai)料行業高(gao)，一(yi)般要(yao)求如，尺寸、平整度(du)、純(chun)度(du)、各(ge)項雜質(zhi)含(han)量、密(mi)(mi)度(du)、N/O/C/S、晶(jing)粒尺寸與缺陷控(kong)制(zhi)；較高(gao)要(yao)求或特殊要(yao)求包(bao)含(han)：表面(mian)粗(cu)糙度(du)、電(dian)阻值(zhi)、晶(jing)粒尺寸均(jun)勻(yun)性、成份與組織均(jun)勻(yun)性、異物(wu)（氧(yang)化(hua)(hua)物(wu)）含(han)量與尺寸、導磁(ci)率、超高(gao)密(mi)(mi)度(du)與超細晶(jing)粒等等。磁(ci)控(kong)濺射鍍(du)膜(mo)(mo)是一(yi)種(zhong)新型的(de)物(wu)理氣(qi)相(xiang)鍍(du)膜(mo)(mo)方式,就是用電(dian)子槍系統(tong)把電(dian)子發射并聚(ju)焦在(zai)被鍍(du)的(de)材(cai)料上，使其被濺射出來的(de)原子遵循(xun)動量轉換(huan)原理以(yi)較高(gao)的(de)動能脫(tuo)離材(cai)料飛(fei)向基(ji)片淀(dian)積(ji)成膜(mo)(mo)。這種(zhong)被鍍(du)的(de)材(cai)料就叫濺射靶(ba)材(cai)。 濺射靶(ba)材(cai)有金(jin)屬，合金(jin)、氧(yang)化(hua)(hua)物(wu)及其它化(hua)(hua)合物(wu)等。
濺射靶材主(zhu)要(yao)應用于(yu)電子及信息(xi)產業，如集成電路、信息(xi)存儲(chu)、液晶顯示屏(ping)、激光存儲(chu)器(qi)、電子控制器(qi)件等；亦可應用于(yu)玻璃鍍膜領域；還可以應用于(yu)耐磨材料、高溫(wen)耐蝕、高檔裝飾用品等行業。
Goodwill提供各種不同規格的濺射靶材（平面靶、多弧靶、旋轉靶及其它異形靶材），純度3N~5N，尺寸和成(cheng)份比例均可按客(ke)戶(hu)要求定(ding)制。→推薦(jian)靶材
